Fabrication Equipment
Magnetron Sputtering
Thin film deposition systems
RF/DC Magnetron Sputtering
Main function
Thin film deposition system
Technical specifications
- Model: Univex 450
- Manufacturer: Oerlikon Leybold Vacuum (Germany)
- System Type: Box coater with variable/modular vacuum chamber configurations (DC and RF magnetron sputtering)
- Base Pressure: Can reach down to 1 × 10⁻⁶ Torr (or up to 3.5 × 10⁻⁷ mbar) using high-speed turbomolecular vacuum pump stations
- Substrate Capacity: Accommodates substrate sizes/diameters up to 200 mm depending on the specific internal setup. Substrate could rotate and heat up to 500 °C.
- Deposition Sources: Supports multiple targets (e.g., up to 3 targets, 2-3-inch configurations)
- Process Gases: Typically utilizes Argon (Ar), Oxygen (O₂), and Nitrogen (N₂) for reactive or non-reactive sputtering
- System Control: Fully automated or manual operations managed via a PLC control system with a monitor interface
- Film Thickness Monitoring: Integrated quartz crystal sensor for real-time deposition rate and thickness control
Purpose of use
English: The DC/RF magnetron sputtering system deposits high-quality thin films by sputtering target material onto a substrate in vacuum. DC power suits conductive targets; RF enables sputtering of insulating/semiconducting materials by neutralizing charge buildup. The magnetron's magnetic field confines electrons near the target, boosting ionization for faster, more uniform deposition. Applications include conductive oxide films, thin-film thermoelectrics (ZnO, Mg-doped CuCrO2), and heterostructures for electrical, optical, and thermoelectric research.
Tiếng Việt: Hệ thống DC/RF magnetron sputtering dùng để chế tạo màng mỏng chất lượng cao bằng cách phún xạ vật liệu bia lên đế trong chân không. Nguồn DC phù hợp bia dẫn điện; RF cho phép phún xạ vật liệu cách điện/bán dẫn nhờ trung hòa điện tích. Từ trường magnetron giam giữ electron gần bia, tăng ion hóa giúp lắng đọng nhanh và đồng đều hơn. Ứng dụng gồm màng oxide dẫn điện, vật liệu nhiệt điện màng mỏng (ZnO, CuCrO2 pha tạp Mg), và cấu trúc dị thể phục vụ nghiên cứu điện, quang, nhiệt điện.
Custom-built DC magnetron sputtering system
Main function
The magnetron sputtering system with oil diffusion vacuum pump use to prepare thin films in lagre scale.
Technical specifications
- Model: Custom-built sputtering system
- Lowest pressure: 10-6 Torr.
- Substrate temperature: 600 °C.
- Sputtering gun: 01 3-inch gun and 01 15x30cm2 gun cound be simultaneouly loaded.
Purpose of use
English: The DC magnetron sputtering system deposits high-quality thin films by sputtering target material onto a substrate in vacuum. DC power suits conductive targets. The magnetron's magnetic field confines electrons near the target, boosting ionization for faster, more uniform deposition. Applications include conductive oxide films, thin-film thermoelectrics (ZnO, Mg-doped CuCrO2), and heterostructures for electrical, optical, and thermoelectric research.
Tiếng Việt: Hệ thống DC magnetron sputtering dùng để chế tạo màng mỏng chất lượng cao bằng cách phún xạ vật liệu bia lên đế trong chân không. Nguồn DC phù hợp bia dẫn điện. Từ trường magnetron giam giữ electron gần bia, tăng ion hóa giúp lắng đọng nhanh và đồng đều hơn. Ứng dụng gồm màng oxide dẫn điện, vật liệu nhiệt điện màng mỏng (ZnO, CuCrO2 pha tạp Mg), và cấu trúc dị thể phục vụ nghiên cứu điện, quang, nhiệt điện.